HORIBA：「ナノ粒子解析装置nanoPartica SZ-100V2」シリーズを10月に発売開始

HORIBAは、ナノ物質の量や大きさ、その表面の電荷を計測する「ナノ粒子解析装置nanoPartica SZ-100V2」シリーズを10月上旬に発売する。

　本製品は、先端技術の研究所で用いられる濃度の薄い試料や、従来では測定が困難だった散乱光強度が弱い粒子も高精度に安定して計測することが可能。ナノマテリアルやバイオ・テクノロジー分野の技術開発から、セラミックスや金属などの生産現場のニーズまで応えられる。
　
　ハイパワーレーザー（100mW）を搭載し、光学系レイアウトを改良することで、測定レンジを向上(0.3nm～10,000nm)、測定感度が従来機と比べ約15倍になった。また、レーザー光源の波長やオプションによるカスタマイズを充実させることで、さまざまな分野における研究開発・品質管理の効率化や高分解能が必要な研究にも対応できる。

　販売目標台数は2019年に100台。なお、HORIBAは本製品を、9月5日から7日まで開催のJASIS2018（幕張メッセ）に初出品する。



ナノ粒子解析装置とは

　高度な研究や製造プロセスで取り扱う原材料の粒子の大きさや均一性は、製品の機能や特性に大きな影響を与える。ナノ粒子解析装置は、セラミックスや顔料の他、二次電池の材料となる電解質、人の髪の毛の5万分の1の大きさであるカーボンナノチューブといったナノ材料、さらには抗体医薬品など幅広い分野で、研究開発から品質管理の目的で使用されている。

　また、全粒子計測市場規模は2018年に世界で745億円、2020年まで3.4%の平均成長率で拡大が見込まれている。（同社調べ）



新製品の特長

　ナノ粒子の解析に必要な散乱光信号が弱い小さな粒子や、希薄試料、濃縮が困難な試料には、従来のレーザーでは安定した散乱光を得られず、解析が困難だった。このたびハイパワーレーザー（100mW）を搭載することで、より十分な散乱光を得ることが可能となり、さらに、光学系レイアウトの改良によってノイズが減り、測定感度も従来モデル比で約15倍にアップした。

1．シングルナノ粒子のマルチ要素解析を明確かつ簡単に、１台３役で、「粒子径・ゼータ電位・分子量」のパラメータを高感度・広範囲分析。

2．自社従来モデルから約15倍の測定感度
ハイパワーレーザーの光源を採用し、独自開発のノイズを低減させる光学系レイアウトによって、高濃度・低濃度試料も計測可能

3．粒子径測定レンジ(0.3nm～10,000nm)とゼータ電荷のレンジ（-500mV～＋500mV）が向上

4．顧客のニーズに応じて、蛍光除去、光源波長や出力強度変更などカスタマイズできる。たとえば、人工軟膏、3Dプリンタの材料であるゲルを評価するモデルでは、ゲル中の多点の測定機構と、ゲルに特化した演算方式を採用することにより、ゲルの網目構造を簡便に解析できる。

測定分野と用途
食品、飲料→味、舌触り、賞味期限のコントロールなど
半導体材料→半導体ウエハ研磨剤の製造管理
薬品、化粧品→製剤、粉砕、コーティングなどの研究開発、品質管理
精密機器→高速・高品質印刷用インクなどの材料開発
化学工業→製剤、造粒、粉砕、コーティングなどの研究開発、品質管理
ゲル材料→人工軟膏、3Dプリンタ材料などの研究開発・品質管理
セラミックス→ファインセラミックスの紛体材料の研究開発、材料出荷・受け入れ検査
触媒、二次電池→新規材料の開発、改良など研究開発、品質管理
バイオ・ライフサイエンス→ ウイルスや抗体医薬品などの研究開発
農林業、水、家電→殺菌や浄化作用があるファインバブル